某半导体材料制做中小企业因晶圆除污制作工序产生了含氨废液，供水量200吨/天。废液中除高锰酸盐指数外还带有氟化物和轻微天价属，整理等级大。当地人排卸条件规定要求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水组成及因素 晶圆擦洗工业废水（最主要特征）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程废渣：含少量铜、镍等天价属，pH值下降大 CMP磨研废水处理工艺：含硅顆粒及氧化还原电位 治疗生产工艺工艺流程图 选择"电化学乳浊液+膜分开+折点氯化"搭配方法： 预清理 ：污泥脱水CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置程序 ：快速清理0.01μm之内粉末物 反构建精浓 ：将高锰酸盐指数萃取至1000mg/L上 折点氯化 ：精确度操作氯加药量，将挥发酚图片转换为惰性气体 阴阳离子互相交换 ：的保障血本属及格 既定成果 化学需氧量固定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含磷量低过在线检测限 水造纸废水处理率达75% 污泥处理生产量增多40%