重庆某光电器件心片创造厂，晶圆工作全过程中发生含硅、氟的异常污水，方案办理规模化1200吨/日。污水组成复杂性，有效纳米级级硅粉末及氢氧化钠，普通办理步骤根本无法符合标准。 工业废水的成分及源于 主要是的污染物质 ：溶液硅（100-500nm孔径）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 源头工艺程序 ：晶圆刻蚀污水（45%）、CMP电学设配抛光处理污水（40%）、设配清洗道路水（15%） 治疗工艺设计工作流程 不断创新采用了"化学物质悠长岁月中+特殊膜溶合"技能路经： 钙盐奠定 ：加药氯化钙除去氟铝离子（制成CaF2沉淀出的） 斜板沉淀池反应迟钝 ：复合型斜板沉淀池剂保证 悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜截流微细颗粒物 反侵入系统化 ：脱盐率>98%，收废率75% 蒸馏晶体 ：浓水段实现目标氟化物零释放 决定功能 氟化物密度：<8mg/L（不高于地方二级原则10mg/L） 硅含铁：<5mg/L 水市场工业废水处理率：70%应用在放凉塔补湿 垃圾减药：蒸馏渣子量较传统的工艺技术减低60%